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L75/High Pressure 高壓熱膨脹儀

L75/High Pressure 高壓熱膨脹儀

詳細(xì)介紹

   該Linseis L75/HP 高壓熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應(yīng)用范圍。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達(dá)到100/150 bar的環(huán)境中測(cè)量的材料的膨脹(長(zhǎng)度的改變)??蛇x用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng)。

         為了測(cè)量數(shù)據(jù)和拓寬測(cè)量范圍,可以使用QMS和FTIR對(duì)逸出的氣體進(jìn)行分析。耦合后的功能超過(guò)單獨(dú)部件的總和。用戶通過(guò)LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,采用不同數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析以得到良好的結(jié)果。

型號(hào)DIL L75 HP / 1  DIL L75 HP/2  
溫度范圍*RT -- 1100°CRT -- 1400/1800°C
最大壓力150 bar 100 bar
真空10E-4 mbar10E-4 mbar
樣品支架熔融石英 < 1100°C熔融石英 < 1100°C

Al2O3 < 1750°CAl2O3 < 1750°C
最大樣品長(zhǎng)度50 mm 50 mm 
樣品直徑7/12/20 mm7/12/20 mm
可調(diào)樣品壓力1000 mN1000 mN
測(cè)量范圍500 / 5000 μm500 / 5000 μm
分辨率0.125 nm 0.125 nm
可選裝置 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s)  壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s)  
氣氛 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空

* 取決于不同爐體  

** 不適用于石墨加熱爐