JEBG系列大功率電子槍是用來(lái)在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源,能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜,還可應(yīng)用于電子束熔煉,用于高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。
電子束能大范圍地快速掃描,通過(guò)專用的控制裝置和軟件,能生成各種電子束照射圖形和區(qū)域。由于能夠在各個(gè)照射位置上設(shè)定掃描、停留時(shí)間、輸出功率及電子束形狀,因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
真空蒸鍍
阻隔膜、保護(hù)膜、電極膜、導(dǎo)電膜、磁性膜等薄膜的形成。
真空熔解
Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點(diǎn)金屬鑄錠的制備及精煉。
提煉太陽(yáng)能電池的多晶硅
型號(hào) | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
最大輸出功率 | 30kW (20kV, 1.5A) | 100kW (30kV, 3.4A) | 300kW (40kV, 7.5A) |
最大偏轉(zhuǎn)角 | Max. ±30° | ||
掃描范圍 | X, Y 軸 | ||
最大掃描頻率 | 300Hz | 200Hz | 200Hz (300Hz: 選配) |
適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |